ESCALAMIENTO DINAMICO Y CIN ´ ETICA DE RUGOSIDAD EN ´ PEL´ICULAS DELGADAS DE PZT/Si(100)

Resultados de investigaciones: Contribución a una revistaArtículo

Resumen

Se realiz´o un estudio del escalamiento din´amico y la cin´etica de rugosidad usando im´agenes de Microscopia de Fuerza At´omica (AFM) de pel´ıculas delgadas de Pb(Zr0,48Ti0,52)O3 (PZT) sobre substratos de Si(100). Las pel´ıculas fueron crecidas por la t´ecnica de Magnetr´on RF-sputtering en altas presiones de oxigeno y a una temperatura de substrato aproximada de 600oC variando el tiempo de deposici´on y manteniendo los otros par´ametros de deposici´on constantes. Usamos un algoritmo del cual se puede extraer a partir de las im´agenes de AFM el valor cuantitativo de los par´ametros de rugosidad, es decir, la “rugosidad cuadr´atica media” (σ ()), la longitud de correlaci´on (ξ||), y el exponente de rugosidad (α). En este trabajo reportamos la dependencia de los par´ametros que describen la rugosidad con el tiempo de deposici´on de las capas de PZT. Reportamos valores de α ≈ 0,7 que se mantienen para los diferentes tiempos de deposici´on (entre 15 y 60 minutos). Se obtuvo evidencia de escalamiento an´omalo con un exponente local de αloc ≈ 0,55. Estos valores est´an en acuerdo con el modelo de crecimiento no lineal que
toma en cuenta la difusi´on superficial (LDV).
Idioma originalEspañol (Colombia)
Páginas (de - a)113-117
Número de páginas5
RevistaRevista De La Academia Colombiana De Ciencias Exactas, Físicas Y Naturales
Volumen38
Número1
Estado de la publicaciónPublicada - 5 abr 2006

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